等離子清洗（PLASMA）是一種依靠（kào）處於“等離子（zǐ）態”的物質的“活化作用”，來去除物體表麵（miàn）汙漬的一種清洗方法。它屬於電子工業清洗（xǐ）中的幹法清洗，過程中需要真空泵製造一定的真空條件滿足清洗所需，東莞市普諾（nuò）克真空科技有限（xiàn）公司來說說旋片真空泵（bèng）在等離子（zǐ）清洗技術中的應用過程是怎麽（me）一回事，以及講解一下旋（xuán）片（piàn）真空泵具有什麽特點。

等（děng）離子清洗所（suǒ）需要的等離子體主要通過特定（dìng）的氣體分子在真空、放（fàng）電等（děng）特殊場合下（xià）產生，像（xiàng）低壓氣體輝光等離子體。簡單（dān）地如開頭（tóu）說，等（děng）離子清洗需要在真空狀態下進行（一般需保持在100Pa左右），所以需要德國（guó）旋片真空（kōng）泵進行抽真空作業。

等離子清洗用旋片真空泵的過程是如（rú）何（hé）的？

其主要過程包括：首先將需要（yào）清洗的工件送入真空室固定，啟（qǐ）動旋片真空泵等裝（zhuāng）置開始抽真空排氣到10Pa左右的真空度；接著向真空室引入等離子（zǐ）清洗用的氣體（根據清洗材質的（de）不同，選用的氣體也不同，如氧氣（qì）、氫氣、氬氣、氮（dàn）氣等），並（bìng）將壓力保持在100Pa左（zuǒ）右；在（zài）真空室內的電極與接地裝置之間施加高頻（pín）電壓，使（shǐ）氣體被擊穿，並通過輝光放電使其發生離子化，產生等（děng）離子體；在真空室（shì）內產（chǎn）生（shēng）的等離子體完全覆蓋被清洗工件後，開始清洗作業，清洗過程會持續幾十秒到幾分鍾（zhōng）。整個過程就是依靠等離子體在電磁場內空間運動，並（bìng）轟擊被處理物（wù）體表麵，從而達到表麵處理（lǐ）、清洗和刻蝕的效果（清洗過（guò）程某種程度就是輕微的蝕刻工藝（yì））；清洗完畢後，排出汽化的汙（wū）垢及清洗氣體，同時向真空室內送入空氣恢複至正常大氣壓（yā）。

清洗過程中，在旋（xuán）片真空泵控（kòng）製（zhì）真空室的真空（kōng）環境時，氣（qì）體的流（liú）量決定了發光色度：如果色度較重，說明真空（kōng）度低，氣體流量較大；而偏白時，則是真空度過高，氣體流量較小；具體需要根據所需的處理效果，來確定真空泵要實現（xiàn）的真空度。

等離子清洗（xǐ）技術不分處理對象的基（jī）材類型，對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材（cái）料（如（rú）聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺（àn）、聚氯（lǜ）乙烷、環氧、甚至聚四氟乙烯）等原基材料都能很好處理，並可實現整體（tǐ）和局部以及複雜結構（gòu）的清（qīng）洗，還具備環保（bǎo）、安（ān）全、易控製等優勢，因此在很（hěn）多方麵，尤其是（shì）精密件（jiàn）清（qīng）洗、新半導體材（cái）料研究以及集成電路器件製造業中逐漸取代了濕（shī）法清洗工藝。

91视频网站旋片真空泵在等離子清洗技（jì）術（shù）中的應用（yòng）同國內同類其他產品相比的優點：

1.使用方便，安（ān）裝，維護簡單；

2.旋片真空泵設有氣鎮閥，可抽除少量水蒸氣；

3.旋片真空泵的極限真空度高；

4.內裝強製進油，潤（rùn）滑充分，性能（néng）可靠；

5.設有自動防返油雙重保險裝置；

6.保持進氣壓強為1.33×10Pa時仍可連續（xù）運轉；

7.不漏油、不噴油、不汙染（rǎn）工作環境。