眾所周知，半（bàn）導（dǎo）體（tǐ）工藝水平決（jué）定了晶（jīng）體（tǐ）管尺寸大小。在半導體廠或（huò）光電廠中，真空係統應用於提供（gòng）製程設備（bèi）的真空吸盤或吸筆來（lái）搬運傳送晶（jīng）片（piàn）或玻璃，為半導體製程中相當重要之支援係統（tǒng）。本篇文章涉及半導體製程技術領域，在（zài）介紹真空係統在半導體製（zhì）程中的應用之前，我司打算先對半導體製程和真空係統做些簡單的介紹。

在真空係統中，真空針對大氣而言，表示一（yī）特定空間或係統內部（bù）分氣體被排出，其內部空間的（de）壓力小於大氣壓力，則稱（chēng）此空間（jiān）為真空或為真空狀態，簡單（dān）言之，空間內壓力低於一大氣壓力即為真（zhēn）空。在高（gāo）科（kē）技製程中（zhōng）所要求的高真空或超（chāo）高真空，就必須（xū）要（yào）有足夠（gòu）的真空技術（shù）或設備才能達成。

半導體製程專用（yòng）真空係統的真空度要求一般為700-~500mmHg之間（jiān），僅落在粗略真空範圍內，而製程設備真空度要求則視其應用（yòng）範圍而定，而落在中真空度與超高真空度或以上之範圍。

不（bú）同類型的真（zhēn）空泵組合而成的係統，真空度也有所不一樣，關於真空係統（tǒng）的類型，東莞市91视频网站真空科技有限公司整理出（chū）幾大類。

真（zhēn）空係統的類型有三種：

1.低真空（kōng）係統

2.中真空係統

①由羅茨泵為主泵串聯機（jī）械泵而構成的係統；

②由油增（zēng）壓泵為主泵串聯機械泵而構成的係統；

③由羅茨泵串聯小羅茨泵，再串聯（lián）機械泵而（ér）構成的係統。

3.高真空係統

①由擴散泵為主泵串聯羅（luó）茨泵，再串聯機械泵而構成的係統；

②由擴散泵為主泵串聯（lián）機械（xiè）泵而構成（chéng）的真空係統；

③由（yóu）擴散泵為主泵串聯油增壓泵，再（zài）串聯機械泵而構（gòu）成的真空（kōng）係統。

根據上述所提到的內容，在半導體製程中，最佳的方（fāng）法就是選擇（zé）應用高真空係統，高真（zhēn）空係（xì）統可以由不同的真空設備組（zǔ）合而成。

事實上（shàng）簡單（dān）的真空係統隻是（shì）能獲得一個粗真空，而想（xiǎng）要獲（huò）得高真空時，通常（cháng）在真空係統中串聯一個高真空泵，比（bǐ）如羅茨泵和螺杆泵等都是獲（huò）得高真空的泵。當串聯一個高真空泵之後，通常要在高真空泵的入（rù）口和出口（kǒu）分別加上閥門，以便高真空泵能單獨保持真空。如果所串聯的高真空泵是一個油擴散泵，為了防止大量（liàng）的油蒸氣返（fǎn）流（liú）進入被（bèi）抽（chōu）容器，通常在油擴散泵的入口（kǒu）加（jiā）一個捕集器——水冷障板。根據要求，還可以在管路中（zhōng）加上除塵器、真空繼電器（qì）規頭（tóu）、真空軟連接管（guǎn）道、真空（kōng）泵入口放氣閥，散熱器等（děng）等，這樣就構成了一個較完善的高真（zhēn）空係統。

關於半導體製（zhì）程和真空係統，小編就介（jiè）紹（shào）到這裏，如果（guǒ）您仍對（duì）真空係統（tǒng）在半導（dǎo）體製程中的應用有什麽疑惑的話，隨時可以聯係我司。